Çin'in ASML’nin EUV litografi makinesini kopyaladığı yönündeki iddialar gerçeği yansıtmıyor. Ortaya çıkan prototipin çalışmadığı, tek bir çip bile üretemediği ve ileri üretim teknolojilerine yaklaşamadığı belirtiliyor.
Küresel yarı iletken dünyasında son haftalarda en çok konuşulan başlıklardan biri, Çin’in ASML’nin en ileri teknolojisi olan EUV litografi makinelerini kopyaladığı iddiasıydı. İlk bakışta heyecan uyandıran bu söylentiler, işin detaylarına inildikçe ciddi şekilde sorgulanmaya başlandı. Ortaya çıkan bilgiler, ortada sanıldığı gibi çalışan bir EUV sistemi olmadığını gösteriyor.
Kaynaklara göre Çin’de geliştirildiği öne sürülen EUV makinesi, tam anlamıyla işlevsel bir üretim aracı değil. Daha çok farklı yerlerden temin edilen, birbiriyle uyumu sınırlı parçaların bir araya getirilmesinden oluşan bir prototipten söz ediliyor. İkinci el ekipmanlar ve çevrim içi yedek parça pazarlarından sağlandığı belirtilen bu bileşenlerle kurulan sistemin, bugüne kadar tek bir çip dahi üretemediği ifade ediliyor. Yani iddiaların aksine, ortada somut bir üretim başarısı yok.
Bunun temel nedeni EUV litografi teknolojisinin olağanüstü karmaşık yapısı. ASML’nin Twinscan NXE platformu, basitçe kopyalanabilecek bir cihaz değil. ABD, Avrupa ve Japonya’daki binlerce tedarikçinin onlarca yıla yayılan ortak Ar-Ge çalışmalarının sonucu. Hassas optikler, ultra yüksek vakum sistemleri, gelişmiş kontrol yazılımları ve teşhis araçları gibi kritik bileşenlerin her biri ayrı bir uzmanlık alanına dayanıyor.
Bu zincirin en kritik halkalarından biri, ASML’nin 2012’de bünyesine kattığı ABD merkezli Cymer. Cymer’in geliştirdiği EUV ışık kaynağı, CO₂ lazerle oluşturulan plazma üzerinden 13,5 nanometre dalga boyunda ışık üretimine dayanıyor. Donanımın teorik olarak kopyalanması mümkün görünse bile, yüksek hacimli ve istikrarlı üretim için gereken özel yazılımlar olmadan sistemin çalışması pratikte imkânsız kabul ediliyor. Bu ölçekte bir yazılım-donanım entegrasyonunu bugüne kadar ASML dışında başaran olmadı.
Bir diğer kritik engel ise optikler. EUV sistemlerinin tamamı, Carl Zeiss tarafından üretilen molibden-silikon çok katmanlı aynalara bağımlı. Aşırı morötesi ışığı neredeyse kayıpsız yansıtmak zorunda olan bu aynaları üretebilen dünyadaki tek şirket Zeiss. Uzmanlar, bu seviyedeki optiklerin yeniden üretilebilmesi için malzeme bilimi ve ölçüm teknolojilerinde yıllar sürecek atılımlar gerektiğini vurguluyor.
SMIC gibi firmaların, ASML’nin daha eski nesil DUV litografi sistemlerini yenilenmiş modüller ve ikinci el performans verileriyle geliştirdiği biliniyor. Bu yöntemle makinelerin ömrü uzatılıyor, verimlilik bir miktar artırılıyor. Ancak bu çözümler, modern bir EUV platformunun sunduğu kapasite ve hassasiyetle kıyaslandığında oldukça sınırlı kalıyor.
Google Play
App Store